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xTarget Configuration | Single Or Multiple | Technique | Forged And CNC Machined |
---|---|---|---|
Coating Method | Sputtering | Forming Process | Hot Isostatic Pressing(HIP) |
Thickness | 10-600mm | Surface Finish | Polished |
Purity | 99.99% | Density | Customized |
Mettre en évidence | Objectifs de pulvérisation par dépôt de film mince,Objectifs de pulvérisation de contrôle précis,Cibles de pulvérisation de haute pureté |
Description du produit:
Notre cible de pulvérisation métallique est liée à de l'indium, un matériau très efficace pour assurer une liaison sûre et fiable entre la cible et la plaque de support.Cela garantit que la cible reste en place pendant le processus de pulvérisation, résultant en une production de haute qualité.
La cible de pulvérisation métallique est fabriquée avec une pureté de 99,99%, ce qui garantit qu'elle est exempte d'impuretés susceptibles d'affecter la qualité du produit.Cela en fait un choix parfait pour les applications qui nécessitent un haut niveau de précision, tels que la production de dispositifs électroniques et de composants semi-conducteurs.
Notre cible de pulvérisation métallique est polyvalente et peut être utilisée pour un large éventail d'applications.La production d'appareils de détection des métaux en chute libre et de pistolets à colle à fonder à chaud.
Choisissez notre cible de pulvérisation métallique pour votre prochain projet et profitez des avantages d'un matériau de haute qualité conçu pour répondre à vos besoins spécifiques.Contactez-nous aujourd'hui pour en savoir plus sur nos options personnalisées et comment nous pouvons vous aider à atteindre vos objectifs de production.
Caractéristiques:
- Nom du produit: cible de pulvérisation des métaux
- Surfaces: polies, anodisées
- Méthode de revêtement: pulvérisation
- Liens avec la cible: indium
- Technique: forgé et usiné à la CNC
- Structure cristalline: personnalisée
- Transporteur de détecteur de métaux industriel: compatible
- Métal allié d'acier: compatible
- Poudre métallique d'impression 3D: compatible
Paramètres techniques:
Paramètre technique | Définition |
---|---|
Surface | Polissage, anodisation |
Épaisseur | 10 à 600 mm |
Structure cristalline | Personnalisé |
Compatibilité du substrat | Personnalisé |
Roughness de la surface | Ra < 0,8 μm |
Liens avec les cibles | L'indium |
Finition de surface | Polissés |
Technique | Forgé et usiné à la CNC |
Le processus de formation | Appareil de détection des éclaboussures |
Densité | Personnalisé |
Applications:
La densité de la cible de pulvérisation métallique est personnalisable en fonction des différents besoins de production.qui est un matériau fiable pour attacher la cible à la plaque de supportL'épaisseur de la cible peut varier de 10 à 600 mm, ce qui la rend polyvalente pour diverses applications de revêtement.La compatibilité du substrat de la cible peut également être personnalisée en fonction des différents besoins.
La cible de pulvérisation métallique est adaptée pour une utilisation dans un pistolet à colle à fusion chaude.En plus, la cible peut être utilisée pour produire un film mince sur la surface du pistolet à colle, ce qui améliore ses propriétés anticorrosion et prolonge sa durée de vie.
La cible de pulvérisation des métaux convient également à une machine de détection des métaux à convoyeur.La cible de pulvérisation métallique peut être utilisée pour recouvrir les composants du détecteur de métaux, ce qui contribue à améliorer leur sensibilité et leur précision.
La cible de pulvérisation métallique peut également être utilisée dans d'autres domaines, tels que la production de supports de stockage magnétiques, de supports de stockage optiques et de revêtements décoratifs.La méthode de pulvérisation est un procédé de revêtement très efficace et respectueux de l'environnement, ce qui en fait un choix populaire dans diverses industries.
Personnalisation:
Services de personnalisation de produits:
- Finition de surface: poli
- Processus de formage: pressage isostatique à chaud (HIP)
- Méthode de revêtement: pulvérisation
- Matériau: métal
- Liens avec la cible: indium
Notre produit Metal Sputtering Target peut également être personnalisé avec des options supplémentaires, notamment:
- Poudre métallique d'impression 3D
- Faisceau I en acier au carbone
- Faisceau I en acier au carbone
Assistance et services:
Notre produit Metal Sputtering Target est conçu pour répondre aux besoins d'une variété d'applications, y compris les technologies de dépôt de semi-conducteurs et de films minces.Notre équipe de professionnels de l'assistance technique est disponible pour vous aider à choisir le bon matériau cible pour votre application spécifique, ainsi que pour répondre à toutes vos questions sur les performances des objectifs et la compatibilité avec votre système de dépôt.
En plus de nos services de support technique, nous offrons également une gamme de services à valeur ajoutée pour garantir que votre produit Metal Sputtering Target offre des performances et une longévité optimales.Ces services comprennent la conception et la fabrication de cibles sur mesure, le collage des cibles, le recyclage des cibles et l'analyse et les tests des cibles.
Notre engagement envers la qualité et la satisfaction des clients s'étend également à nos services de support après-vente.Notre équipe de support technique est disponible pour fournir une assistance de dépannage et pour résoudre tous les problèmes pouvant survenir avec votre produit Metal Sputtering Target.